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ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁:已攜手蔡司啟動(dòng) 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)

發(fā)布者:SereneMelody最新更新時(shí)間:2025-06-27 來(lái)源: IT之家關(guān)鍵字:ASML  光刻機(jī)  蔡司 手機(jī)看文章 掃描二維碼
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6 月 27 日消息,ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 在接受《日經(jīng)亞洲》采訪時(shí)表示,該企業(yè)已同光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司一道啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)。

作為參考,目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統(tǒng)采用 High NA (0.55NA) 光學(xué)系統(tǒng),分辨率為 8nm。更高的分辨率意味著先進(jìn)制程企業(yè)可減少曝光次數(shù)、提升光刻圖案質(zhì)量。

Jos Benschop 提到,ASML 尚未設(shè)定 Hyper NA 光刻機(jī)推出的目標(biāo)日期,不過(guò)項(xiàng)目開(kāi)發(fā)目標(biāo)是將 NA(IT之家注:數(shù)值孔徑)進(jìn)一步提升到 0.7 乃至更高;5nm 的分辨率意味著 Hyper NA 系統(tǒng)能滿足 2035 年乃至更后階段的產(chǎn)業(yè)需求。

對(duì)于近來(lái)才啟動(dòng)部署的 High NA 圖案化設(shè)備,這位 ASML 高管稱(chēng)這些機(jī)臺(tái)的廣泛使用要晚一些,這是因?yàn)樾袠I(yè)需要測(cè)試、驗(yàn)證并建立相應(yīng)的生態(tài)系統(tǒng);0.55NA 光刻機(jī)預(yù)計(jì)可滿足本十年內(nèi)乃至到三十年代初的行業(yè)需求。


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