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英特爾:7nm芯片仍適用摩爾定律,14nm漸上正軌

最新更新時(shí)間:2015-02-25來源: PCWorld關(guān)鍵字:7nm  英特爾  摩爾定律 手機(jī)看文章 掃描二維碼
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    據(jù)PCWorld網(wǎng)站報(bào)道稱,制造處理器、圖形芯片和其他芯片的傳統(tǒng)方法最終將“失去動(dòng)力”。據(jù)本周在ISSCC(國際固態(tài)電路會(huì)議)上發(fā)言的英特爾研究人員稱,未來數(shù)年芯片產(chǎn)業(yè)仍然有上升空間。
 
    英特爾高級研究員馬克·玻爾(Mark Bohr)將于周一晚上在一次研討會(huì)上討論把制造工藝由當(dāng)前的14納米提高到10納米或更先進(jìn)工藝所面臨的挑戰(zhàn)。
 
    PCWorld指出,玻爾在與記者舉行的電話會(huì)議上表示,英特爾認(rèn)為,當(dāng)前半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展速度能維持到10納米(預(yù)計(jì)2016年)之后。無需轉(zhuǎn)向成本高昂、高深的制造技術(shù)——例如紫外線激光,廠商就可以生產(chǎn)出7納米(預(yù)計(jì)時(shí)間為2018年)芯片。
 
    今年是摩爾定律問世50周年。摩爾定律是由英特爾創(chuàng)始人戈登·摩爾(Gordon Moore)提出的,即芯片上的晶體管密度每18個(gè)月翻一番。在現(xiàn)實(shí)世界中,芯片每2年左右發(fā)展一代,速度更快,能耗更低。
 
    硅芯片生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜。芯片由光在硅片上“蝕刻”而成,為了改進(jìn)芯片制造工藝,芯片廠商必須不斷縮減光線波長。如果芯片廠商做不到這一點(diǎn)——或不能經(jīng)濟(jì)地做到這一點(diǎn),芯片改進(jìn)的進(jìn)程就會(huì)停止。
 
    英特爾:14納米“Broadwell”技術(shù)逐步走上正軌
 
    英特爾在ISSCC上將宣讀5篇論文,其中3篇與14納米工藝有關(guān)。英特爾還將參與與10納米工藝有關(guān)的研討會(huì)。
 
    PCWorld 表示,受制造問題影響,英特爾被迫把14納米“Broadwell”芯片發(fā)布時(shí)間推遲了數(shù)個(gè)月,希望在轉(zhuǎn)向10納米工藝時(shí)避免“重蹈覆轍”。在被問到原因 時(shí)玻爾表示,“我認(rèn)為我們可能低估了需要學(xué)習(xí)的東西,像14納米工藝這樣的技術(shù),需要進(jìn)行更長時(shí)間的試驗(yàn)。這會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品開發(fā)速度比預(yù)期的要慢,提高成品率 需要更長的時(shí)間。但現(xiàn)在我們的成品率已經(jīng)相當(dāng)高。”
 
    玻爾表示,英特爾試驗(yàn)性10納米生產(chǎn)線的速度比14納米生產(chǎn)線快50%,這將使10納米工藝開發(fā)工作能按計(jì)劃進(jìn)行。
 
    對于PC市場來說這是個(gè)好消息。但是,如果芯片產(chǎn)業(yè)能維持制造技術(shù)未來數(shù)年不發(fā)生重大變化,這將是一個(gè)更好的消息。  
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